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10L等離子清洗機 500...10L等離子清洗機 500W/1000W是一種小型化、非破壞性的清洗設備。該等離子清洗機采用低氣壓激...
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旋轉涂覆儀本型號勻膠機采用全鋁合金腔體，外觀美觀堅固；腔體上蓋則采用360°可視的有機玻璃設計，便于客戶使用過...
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感應爐感應爐CY-IVΦ300-15KW-SS是一款頂部帶有真空吸鑄裝置的15KW感應加熱/熔化系統。這種...
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晶體生長爐本產品是一款小型的1100℃布里奇曼晶體生長爐，配有2英寸的石英管，精密提拉機。布里奇曼晶體生長爐用...
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1700℃管式爐1700℃管式爐采用高質量硅鉬棒作為加熱元件，加熱溫度可高達1700℃，爐管管徑為50mm，采用高純...
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磁控濺射鍍膜儀
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桌面型磁控濺射鍍膜儀...磁控濺射鍍膜儀是一種先進的物**相沉積設備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術，通過磁場增強離子化效率，從而實現高質量、均勻的薄膜沉積
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雙靶磁控濺射鍍膜儀雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備
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粉末磁控濺射鍍膜儀粉末磁控濺射鍍膜儀是一種用于在基材表面沉積薄膜的設備，利用磁控濺射技術將粉末狀的靶材轉化為薄膜覆蓋在基材上
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桌面型磁控濺射鍍膜儀...磁控濺射鍍膜儀是一種先進的物**相沉積設備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術，通過磁場增強離子化效率，從而實現高質量、均勻的薄膜沉積
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熱蒸發鍍膜儀
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桌面型有機源蒸發鍍膜...熱蒸發鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發、氣態粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結合能，從而轉變為氣態分子并從蒸發源表面逸出 。這些氣態粒子在輸運過程中基本上無碰撞地直線飛行到基底表面，并在那里凝聚形核生長成固相薄膜
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桌面型不銹鋼腔體熱蒸...熱蒸發鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發、氣態粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結合能，從而轉變為氣態分子并從蒸發源表面逸出 。這些氣態粒子在輸運過程中基本上無碰撞地直線飛行到基底表面，并在那里凝聚形核生長成固相薄膜
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高真空雙源熱蒸發鍍膜...高真空雙源熱蒸發鍍膜儀適用于蒸發涂覆大多數金屬和某些有機材料薄膜
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高真空電子束蒸發鍍膜...電子束蒸發方式鍍膜設備，主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質襯底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜
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高溫熔煉爐
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1800度1Kg真空...1Kg真空感應熔煉爐是真空冶金領域中應用*廣的設備之一。事實證明：宇航、導彈、火箭、原子能設備和電子工業所需要的合金和特殊鋼
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超高溫大容量非自耗型...超高溫大容量非自耗型真空電弧爐是我公司根據科研單位實驗要求精心研發設計的一款主要用于：熔煉難熔金屬及合金，可進行冶煉、提純、脫氧、除雜等
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鎳鈷合金中頻感應熔煉...中頻感應熔煉爐功能全 面、熔煉快速、使用方便、節能環保，非常適合實驗室進行金屬樣品研究。廣泛應用于大專院校及科研單位等在真空或保護氣氛條件下對金屬材料（如 不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等）的熔煉處理和制備，也可進行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造
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中頻真空感應熔煉爐中頻真空感應熔煉爐是真空冶金領域中應用*廣的設備之一。事實證明：宇航、導彈、火箭、原子能設備和電子工業所需要的合金和特殊鋼，占有相當比例的產品是采用真空感應熔煉爐生產出來的，例如，鎳基、鈷基、鐵基高溫合金采用真空感應熔煉爐工藝熔煉時，其熱加工性能和機械性能明顯提高
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等離子鍍膜儀
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換位自轉等離子鍍膜儀本型號等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗，本設備配備換位自轉式樣品臺，用戶可以在觸控屏上實現一鍵換位，樣品臺可在兩個靶位自由切換，本設備體積小巧造型美觀功能強大，是實驗室鍍膜試驗的*佳選擇。
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三靶等離子濺射鍍膜儀...本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。本型號儀器還配有旋轉樣品臺，能夠有效的提升鍍膜的均勻性。（本設備配有旋轉加熱樣品臺，可以提升鍍膜的均勻性和薄膜的附著力）該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。設備體積小巧造型美觀，是實驗室鍍膜試驗的*佳選擇。
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三靶等離子濺射鍍膜儀...本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。本型號儀器還配有旋轉樣品臺，能夠有效的提升鍍膜的均勻性。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。設備體積小巧造型美觀，是實驗室鍍膜試驗的*佳選擇。
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三靶等離子濺射鍍膜儀...本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。本型號儀器還配有旋轉樣品臺，能夠有效的提升鍍膜的均勻性。（本設備配有旋轉樣品臺，可以提升鍍膜的均勻性）該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。設備體積小巧造型美觀，是實驗室鍍膜試驗的*佳選擇。
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可編程勻膠機
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全自動勻膠機旋涂儀旋涂儀是一種實驗室設備，主要用于制備薄膜材料，其應用范圍包括制備太陽能電池，制備金屬、半導體、氧化物、聚合物等材料的薄膜，制備納米材料、納米結構、納米薄膜等
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12寸防腐勻膠機旋涂...12寸防腐勻膠機旋涂儀可以將液態或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要應用于光刻膠旋涂、生物培養基制作、溶膠凝膠法制作高分子薄膜等領域
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亞克力八英寸勻膠機帶...勻膠機可以將液態或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要應用于光刻膠旋涂、生物培養基制作、溶膠凝膠法制作高分子薄膜等領域
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凈化旋涂儀帶加熱臺凈化型勻膠機廣泛用于半導體硅片的勻膠鍍膜等，例如對大型晶圓、芯片、晶片等進行工藝制版時，可用此設備進行各種膠體的表面涂覆或光刻工藝勻膠； 是集成電路及半導體器件生產過程中涂覆勻膠的專用設備 。該設備中涂膠部分含有兩個工位的勻膠臺，可分別獨立工作，也可兩臺同時工作
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涂布機
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1000mm真空加熱...涂布機是一種廣泛應用于制造業中的機器設備，主要用于薄膜、紙張、布料等材料的表面涂布工藝生產
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間歇式鋰電池涂布機間歇式鋰電池涂布機本著方便研究者使用，同時滿足涂布精度和一致性無異于生產的要求設計，烘干效果優異，是鋰離子電池、超級電容、鎳電池以及其他二次電池研發的理想之選
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實驗室自動卷對卷涂布...實驗室自動卷對卷涂布機是近年來發展起來的一種新興的實驗室儀器。 是電氣控制與機械有機結合的一次成功**。 在涂料生產領域，可節省大量原材料，提高生產工藝； 關鍵是在實驗的基礎上，涂層的重現性大大提高。 專為高校、科研院所、企業實驗室的電池材料研發和材料檢測而設計制造
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鋰離子電池狹縫擠出型...狹縫擠出型涂布機，可進行連續和間歇涂布等類型的涂布要求。設備涂布精度高，一致性穩定性好，廣泛應用于鋰離子電池、石墨烯薄膜、光學薄膜、陶瓷薄膜、**膠帶以及各種功能薄膜行業
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新聞資訊
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金剛石切割機的組成與工作...
金剛石切割機主要由以下幾個部分組成：1.刀片：刀...[詳情]
- 金剛石切割機的組成與工作... 2024-09-10
- 歡迎俄羅斯客戶來公司參觀... 2023-11-22
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技術文章
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磁控濺射鍍膜儀的簡介
磁控濺射鍍膜儀的簡介磁控濺射鍍膜儀是一種**的表面鍍膜裝備，其能夠通過...[詳情]
- 磁控濺射鍍膜儀的簡介 2024-02-18
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